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央發明研究所憑借數十年含浸技術的經驗與實績、而開發的真空裝置，搭載德國普旭旋片真空泵。可達到壓鑄行業要求的完全真空，且實現了真空度的穩定、高循環。標配有縮短真空時間的真空罐和真空保護器等，是壓鑄行業中追求的上等真空系統。日本chuhatsu中央發明研究所可達到壓鑄行業要求的完全真空，且實現了真空度的穩定、高循環的真空裝置日本chuhatsu中央發明研究所可達到壓鑄行業要求的完全真空，且實現了真空度的穩定、高循環的真空裝置

詳情介紹：

中央發明研究所憑借數十年含浸技術的經驗與實績、而開發的真空裝置，搭載德國普旭旋片真空泵。可達到壓鑄行業要求的完全真空，且實現了真空度的穩定、高循環。
標配有縮短真空時間的真空罐和真空保護器等，是壓鑄行業中追求的上等真空系統。

產品型號

真空罐
①

保護器
②

真空泵
③

排氣量（m³/h）

連接口徑（A）

尺寸（W×D×Hmm）

R-250T
VT-1000

VT-1000

T-300-11

R-0250D

250

1000×1200×2900

R-250T
VT-700

VT-700

T-300-11

R-0250D

250

1000×1200×2500

R-250T
VT-700H

VT-700H

T-300-11

R-0250D

250

1310×1200×1850

R-250T
VT-500

VT-500

T-300-11

R-0250D

250

1000×1200×2100

R-100T
VT-500H

VT-500H

T-250-5

R-0100E

100

1100×1000×1650

R-040T
VT-200

VT-200

T-250-5

R-0040E

1000×1000×1000

R-040T
VT-60

VT-60

T-250-5

R-0040E

1000×630×1250

R-040
VTT-60

VTT-60

R-0040E

520×520×710

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產品名稱：日本chuhatsu中央發明研究所可達到壓鑄行業要求的完全真空，且實現了真空度的穩定、高循環的真空裝置